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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用硅
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牛津仪器Etch刻蚀工艺
耦合等离子体刻蚀铝溅射刻蚀Au—溅射刻蚀金刻蚀Cr—刻蚀铬Cu刻蚀(反应离子刻蚀)—刻蚀铜刻蚀Mo—刻蚀钼刻蚀Nb(反应离子刻蚀,感应耦合等离子体)—刻蚀铌刻蚀Ni—刻蚀镍离子束刻蚀Ni—刻蚀镍铬合金
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用有机物
—刻蚀氧化铝—感应耦合等离子体刻蚀蓝宝石GST刻蚀- 锗锑碲化物的ICP刻蚀技术感应耦合等离子体刻蚀Bi2Te3—刻蚀碲化铋反应离子刻蚀ITO—刻蚀铟锡氧化物干法刻蚀LiNbO3—刻蚀铌酸锂干法刻蚀
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用电介质
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用金属
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用化合物半导体
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Titan MPS珀金埃尔默微波消解 PerkinElmer 二硫化铌
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微波消解 系统珀金埃尔默 PerkinElmer 硅氧化铝
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HACH 钼离子仪 钼酸盐检测DR300钼哈希 样本
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